தொழில் செய்திகள்

டான்டலம் கார்பைடு (டிஏசி) பூச்சுகள் குறைக்கடத்தி துறையில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன, முக்கியமாக எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி உலை கூறுகள், ஒற்றை படிக வளர்ச்சி முக்கிய கூறுகள், உயர் வெப்பநிலை தொழில்துறை கூறுகள், எம்ஓசிவிடி சிஸ்டம் ஹீட்டர்கள் மற்றும் செதில் கேரியர்கள்.

SiC எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி செயல்பாட்டின் போது, ​​SiC பூசப்பட்ட கிராஃபைட் இடைநீக்க தோல்வி ஏற்படலாம். இந்த கட்டுரை SiC பூசப்பட்ட கிராஃபைட் இடைநீக்கத்தின் தோல்வி நிகழ்வின் கடுமையான பகுப்பாய்வை நடத்துகிறது, இதில் முக்கியமாக இரண்டு காரணிகள் அடங்கும்: SiC எபிடாக்சியல் வாயு தோல்வி மற்றும் SiC பூச்சு தோல்வி.

இந்தக் கட்டுரை முக்கியமாக மூலக்கூறு பீம் எபிடாக்ஸி செயல்முறை மற்றும் உலோக-கரிம இரசாயன நீராவி படிவு தொழில்நுட்பங்களின் தொடர்புடைய செயல்முறை நன்மைகள் மற்றும் வேறுபாடுகளைப் பற்றி விவாதிக்கிறது.

வெடெக் செமிகண்டக்டரின் நுண்ணிய டான்டலம் கார்பைடு, ஒரு புதிய தலைமுறை எஸ்.ஐ.சி படிக வளர்ச்சிப் பொருளாக, பல சிறந்த தயாரிப்பு பண்புகளைக் கொண்டுள்ளது மற்றும் பல்வேறு குறைக்கடத்தி செயலாக்க தொழில்நுட்பங்களில் முக்கிய பங்கு வகிக்கிறது.

எபிடாக்சியல் உலையின் செயல்பாட்டுக் கொள்கையானது, உயர் வெப்பநிலை மற்றும் உயர் அழுத்தத்தின் கீழ் ஒரு அடி மூலக்கூறு மீது குறைக்கடத்தி பொருட்களை வைப்பதாகும். சிலிக்கான் எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி என்பது, ஒரு குறிப்பிட்ட படிக நோக்குநிலையுடன் சிலிக்கான் ஒற்றை படிக அடி மூலக்கூறில் அடி மூலக்கூறு மற்றும் வெவ்வேறு தடிமன் போன்ற அதே படிக நோக்குநிலையுடன் படிகத்தின் ஒரு அடுக்கை வளர்ப்பதாகும். இந்தக் கட்டுரை முக்கியமாக சிலிக்கான் எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி முறைகளை அறிமுகப்படுத்துகிறது: நீராவி கட்ட எபிடாக்ஸி மற்றும் திரவ நிலை எபிடாக்ஸி.

செமிகண்டக்டர் உற்பத்தியில் இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) மெல்லிய படப் பொருட்களை அறையில் வைப்பதற்குப் பயன்படுத்தப்படுகிறது, இதில் SiO2, SiN போன்றவை அடங்கும், மேலும் பொதுவாகப் பயன்படுத்தப்படும் வகைகளில் PECVD மற்றும் LPCVD ஆகியவை அடங்கும். வெப்பநிலை, அழுத்தம் மற்றும் எதிர்வினை வாயு வகையைச் சரிசெய்வதன் மூலம், வெவ்வேறு செயல்முறைத் தேவைகளைப் பூர்த்தி செய்ய CVD உயர் தூய்மை, சீரான தன்மை மற்றும் நல்ல படக் கவரேஜ் ஆகியவற்றை அடைகிறது.