செய்தி
தயாரிப்புகள்

சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு தயாரிப்பது எப்படி? - வெட்கெமிகான்

சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு என்றால் என்ன?


சி.வி.டி டிஏசி பூச்சுஅதிக வலிமை, அரிப்பு எதிர்ப்பு மற்றும் நல்ல வேதியியல் ஸ்திரத்தன்மை கொண்ட ஒரு முக்கியமான உயர் வெப்பநிலை கட்டமைப்பு பொருள். அதன் உருகும் புள்ளி 3880 as வரை அதிகமாக உள்ளது, மேலும் இது அதிக வெப்பநிலை-எதிர்ப்பு சேர்மங்களில் ஒன்றாகும். இது சிறந்த உயர் வெப்பநிலை இயந்திர பண்புகள், அதிவேக காற்றோட்ட அரிப்பு எதிர்ப்பு, நீக்குதல் எதிர்ப்பு மற்றும் கிராஃபைட் மற்றும் கார்பன்/கார்பன் கலப்பு பொருட்களுடன் நல்ல வேதியியல் மற்றும் இயந்திர பொருந்தக்கூடிய தன்மை ஆகியவற்றைக் கொண்டுள்ளது.

எனவே, இல்MOCVD எபிடாக்சியல் செயல்முறைகன் எல்.ஈ.டிக்கள் மற்றும் எஸ்.ஐ.சி சக்தி சாதனங்கள்,சி.வி.டி டிஏசி பூச்சுH2, HC1 மற்றும் NH3 க்கு சிறந்த அமிலம் மற்றும் கார எதிர்ப்பைக் கொண்டுள்ளது, இது கிராஃபைட் மேட்ரிக்ஸ் பொருளை முழுவதுமாக பாதுகாக்கவும் வளர்ச்சி சூழலை சுத்திகரிக்கவும் முடியும்.


சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு இன்னும் 2000 bet. க்கு மேல் நிலையானது, மற்றும் சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு 1200-1400 at இல் சிதைந்துவிடத் தொடங்குகிறது, இது கிராஃபைட் மேட்ரிக்ஸின் ஒருமைப்பாட்டை பெரிதும் மேம்படுத்தும். பெரிய நிறுவனங்கள் அனைத்தும் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுகளில் சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு தயாரிக்க சி.வி.டி.


சி.வி.டி டான்டலம் கார்பைடு பூச்சுகளின் தயாரிப்பு நிலைமைகள்


சி.வி.டி டிஏசி பூச்சுகளின் தயாரிப்பு செயல்முறை பொதுவாக உயர் அடர்த்தி கொண்ட கிராஃபைட்டை அடி மூலக்கூறு பொருளாகப் பயன்படுத்துகிறது, மேலும் குறைபாடு இல்லாததுசி.வி.டி டிஏசி பூச்சுசி.வி.டி முறையால் கிராஃபைட் மேற்பரப்பில்.


சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு தயாரிப்பதற்கான சி.வி.டி முறையின் உணர்தல் செயல்முறை பின்வருமாறு: ஆவியாதல் அறையில் வைக்கப்பட்டுள்ள திடமான டான்டலம் மூலமானது ஒரு குறிப்பிட்ட வெப்பநிலையில் வாயுவாக பதப்படுத்துகிறது, மேலும் ஆவியாதல் அறையிலிருந்து AR கேரியர் வாயுவின் ஒரு குறிப்பிட்ட ஓட்ட விகிதத்தால் கொண்டு செல்லப்படுகிறது. ஒரு குறிப்பிட்ட வெப்பநிலையில், வாயு டான்டலம் மூலமானது ஹைட்ரஜனுடன் சந்தித்து கலக்கிறது. இறுதியாக, குறைக்கப்பட்ட டான்டலம் உறுப்பு படிவு அறையில் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறின் மேற்பரப்பில் டெபாசிட் செய்யப்படுகிறது, மேலும் ஒரு குறிப்பிட்ட வெப்பநிலையில் கார்பனேற்றம் எதிர்வினை ஏற்படுகிறது.


சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு செயல்பாட்டில் ஆவியாதல் வெப்பநிலை, வாயு ஓட்ட விகிதம் மற்றும் படிவு வெப்பநிலை போன்ற செயல்முறை அளவுருக்கள் உருவாவதில் மிக முக்கிய பங்கு வகிக்கின்றனசி.வி.டி டிஏசி பூச்சுமற்றும் கலப்பு நோக்குநிலையுடன் சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு ஒரு TACL5 -H2 -AR -C3H6 அமைப்பைப் பயன்படுத்தி 1800 ° C க்கு சமவெப்ப வேதியியல் நீராவி படிவு மூலம் தயாரிக்கப்பட்டது.


சி.வி.டி டிஏசி பூச்சு தயாரிக்கும் செயல்முறை



Figure 1 shows the configuration of the chemical vapor deposition (CVD) reactor and the associated gas delivery system for TaC deposition

வேதியியல் நீராவி படிவு (சி.வி.டி) உலையின் உள்ளமைவு மற்றும் டிஏசி படிவு தொடர்பான தொடர்புடைய எரிவாயு விநியோக முறையை படம் 1 காட்டுகிறது.


Figure 2 shows the surface morphology of the CVD TaC coating at different magnifications, showing the density of the coating and the morphology of the grains

சி.வி.டி டிஏசி பூச்சுகளின் மேற்பரப்பு உருவ அமைப்பை வெவ்வேறு உருப்பெருக்கங்களில் படம் 2 காட்டுகிறது, இது பூச்சின் அடர்த்தி மற்றும் தானியங்களின் உருவ அமைப்பைக் காட்டுகிறது.


Figure 3 shows the surface morphology of the CVD TaC coating after ablation in the central area, including blurred grain boundaries and fluid molten oxides formed on the surface

மையப் பகுதியில் நீக்கப்பட்ட பிறகு சி.வி.டி டிஏசி பூச்சுகளின் மேற்பரப்பு உருவமைப்பை படம் 3 காட்டுகிறது, இதில் மங்கலான தானிய எல்லைகள் மற்றும் மேற்பரப்பில் உருவாகும் திரவ உருகிய ஆக்சைடுகள் அடங்கும்.


it shows the XRD patterns of the CVD TaC coating in different areas after ablation, analyzing the phase composition of the ablation products, which are mainly β-Ta2O5 and α-Ta2O5

படம் 4 நீக்குதலுக்குப் பிறகு வெவ்வேறு பகுதிகளில் உள்ள சி.வி.டி டிஏசி பூச்சுகளின் எக்ஸ்ஆர்டி வடிவங்களைக் காட்டுகிறது, நீக்குதல் தயாரிப்புகளின் கட்ட கலவையை பகுப்பாய்வு செய்கிறது, அவை முக்கியமாக β-TA2O5 மற்றும் α-TA2O5 ஆகும்.

தொடர்புடைய செய்திகள்
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept