தயாரிப்புகள்

VETEK CVD சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) கோடட் கிராஃபைட் RTP RTA கேரியர், செமிகண்டக்டர் உற்பத்தியில் பயன்படுத்தப்படும் விரைவான வெப்ப செயலாக்கம் (RTP) மற்றும் ரேபிட் தெர்மல் அனீலிங் (RTA) அமைப்புகளுக்காக வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளது. அடர்த்தியான CVD SiC பூச்சுடன் கூடிய உயர்-தூய்மை ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட்டிலிருந்து தயாரிக்கப்பட்டது, இது சிறந்த வெப்ப நிலைத்தன்மை, சிறந்த வெப்பநிலை சீரான தன்மை, உயர்ந்த இரசாயன எதிர்ப்பு மற்றும் அதி-குறைந்த துகள் உருவாக்கம் ஆகியவற்றை வழங்குகிறது. தொடர்ச்சியான விரைவான வெப்பமூட்டும் மற்றும் குளிரூட்டும் சுழற்சிகளைத் தாங்கும் வகையில் வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளது, கேரியர் நம்பகமான செதில் ஆதரவு மற்றும் சிலிக்கான் செதில் அனீலிங் மற்றும் பிற உயர் வெப்பநிலை குறைக்கடத்தி பயன்பாடுகளுக்கான நிலையான செயல்முறை செயல்திறனை உறுதி செய்கிறது.

VETEK CVD TaC கோடட் சஸ்செப்டர் ஒரு உயர்-தூய்மை ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுடன் அடர்த்தியான CVD டான்டலம் கார்பைடு (TaC) பூச்சுடன் ஒருங்கிணைத்து விதிவிலக்கான வெப்ப நிலைத்தன்மை, அரிப்பு எதிர்ப்பு மற்றும் குறைக்கடத்தி எபிடாக்சி தேவைக்கான குறைந்த துகள் உருவாக்கம் ஆகியவற்றை வழங்குகிறது. SiC, GaN மற்றும் AlN எபிடாக்சியல் வளர்ச்சிக்காக வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளது, இது மாசுபாட்டைக் குறைக்கிறது, செதில் வெப்பநிலை சீரான தன்மையை மேம்படுத்துகிறது மற்றும் உயர் வெப்பநிலை MOCVD மற்றும் CVD செயல்முறைகளில் கூறுகளின் சேவை வாழ்க்கையை நீட்டிக்கிறது.

VeTek செமிகண்டக்டரில் இருந்து CVD SiC பூசப்பட்ட RTP சஸ்செப்டர் விரைவான வெப்ப செயலாக்கம் (RTP) மற்றும் செமிகண்டக்டர் உற்பத்தி முழுவதும் பயன்படுத்தப்படும் விரைவான வெப்ப அனீலிங் (RTA) உபகரணங்களை வழங்குகிறது. அடி மூலக்கூறு உயர்-தூய்மை ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட்டிலிருந்து தயாரிக்கப்படுகிறது, அதன் மேல் அடர்த்தியான CVD சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) அடுக்கு டெபாசிட் செய்யப்படுகிறது. இந்த கட்டுமானமானது அதிக வெப்ப கடத்துத்திறன், வலுவான இரசாயன செயலற்ற தன்மை மற்றும் தொடர்ச்சியான உயர் வெப்பநிலை சுழற்சியின் கீழ் நிலையான பரிமாண நிலைத்தன்மையை அளிக்கிறது.

கோரும் குறைக்கடத்தி படிக வளர்ச்சி பயன்பாடுகளுக்கு, VETEK மூன்று-துண்டு கிராஃபைட் க்ரூசிபிள் செயல்முறைக்கு தேவையான நிலைத்தன்மை, தூய்மை மற்றும் வெப்ப சமநிலையை வழங்குகிறது. விருப்பமான SiC, TaC அல்லது PyC பூச்சுகளுடன் கூடிய உயர்தர ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட்டிலிருந்து தயாரிக்கப்பட்டது - அதன் பிளவு வடிவமைப்பு வசதிக்காக மட்டும் அல்ல. இது வெப்ப அழுத்தத்தை சுறுசுறுப்பாகக் குறைக்கிறது, பராமரிப்பை விரைவுபடுத்துகிறது மற்றும் சுழற்சிக்குப் பிறகு சுழற்சியைச் செய்கிறது.

VETEK PG (பைரோலிடிக் கிராஃபைட்) பூசப்பட்ட வளையமானது, குறைக்கடத்தி வெப்பப் புலம் மற்றும் படிக வளர்ச்சி சூழல்களில் சீரான வெப்ப விநியோகம் மற்றும் நிலையான வெப்பநிலை ஆகியவை பேச்சுவார்த்தைக்குட்படாத வகையில் உருவாக்கப்பட்டதாகும். உயர்-தூய்மை கிராஃபைட் தளத்துடன் தொடங்கி, அடர்த்தியான பைரோலிடிக் கிராஃபைட் பூச்சுடன் முடிக்கப்பட்டது, இந்த கூறு விதிவிலக்கான வெப்ப கடத்துத்திறனை வழங்குகிறது, கடுமையான வெப்ப அதிர்ச்சியைத் தாங்குகிறது மற்றும் தீவிர வெப்பநிலையில் அதன் பரிமாணங்களை நீண்ட நேரம் தக்க வைத்துக் கொள்கிறது. படிக வளர்ச்சி உலைகள், உயர்-வெப்பநிலை அடுப்புகள் மற்றும் குறைக்கடத்திகளுக்கான வெப்பப் புலக் கூட்டங்களில் இந்த மோதிரங்கள் அதிகமாகப் பயன்படுத்தப்படுவதை நீங்கள் காண்பீர்கள்-எங்கும் துல்லியமான வெப்பநிலைக் கட்டுப்பாடு நேரடியாகச் செயலாக்கத்தை மீண்டும் இயக்கும் மற்றும் இறுதித் தயாரிப்பு தரத்தை இயக்குகிறது.

If you’ve ever dealt with uneven gas flow or particle contamination in a deposition chamber, the VETEK CVD SiC Coated Graphite Shower Head is designed to solve that. It starts with high‑purity isostatic graphite for thermal stability and easy machining, then gets a dense CVD Silicon Carbide (SiC) coating that seals the surface, resists corrosive gases (like HCl or NF₃), and prevents outgassing. The result is a gas distribution plate that delivers uniform flow across the wafer, handles high‑temperature epitaxy, and lasts far longer than bare graphite or quartz – making it a trusted component for CVD, PECVD, MOCVD, silicon epitaxy, and SiC epitaxy processes. தனிப்பயன் துளை வடிவங்கள் மற்றும் அளவுகளையும் நாங்கள் வழங்குகிறோம், ஏனெனில் எந்த இரண்டு அணு உலைகளும் சரியாக இல்லை.