க்யு ஆர் குறியீடு
எங்களைப் பற்றி
தயாரிப்புகள்
எங்களை தொடர்பு கொள்ள

தொலைபேசி

தொலைநகல்
+86-579-87223657

மின்னஞ்சல்

முகவரி
வாங்டா சாலை, ஜியாங் தெரு, வுயி கவுண்டி, ஜின்ஹுவா நகரம், ஜெஜியாங் மாகாணம், சீனா
A சிலிக்கான் கார்பைடு பூச்சு (SiC பூச்சு)வேதியியல் ரீதியாக எதிர்க்கும் மற்றும் வெப்பமாக நிலையான செயல்முறை இடைமுகத்தை உருவாக்க, பொதுவாக உயர்-தூய்மை கிராஃபைட், ஒரு கூறு மேற்பரப்பில் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட அடர்த்தியான SiC அடுக்கு ஆகும். குறைக்கடத்தி உபகரணங்களில், பூச்சு பொதுவாக உற்பத்தி செய்யப்படுகிறதுஇரசாயன நீராவி படிவு (CVD).
அதன் செயல்திறன் ஒருங்கிணைந்த அமைப்பிலிருந்து வருகிறதுகிராஃபைட் அடி மூலக்கூறு, CVD SiC அடுக்கு, கூறு வடிவியல் மற்றும் உலை சூழல்.
கிராஃபைட் செமிகண்டக்டர் ஹாட்-ஜோன் பாகங்களுக்கு பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது, ஏனெனில் இது இயந்திரம் மற்றும் வெப்ப நிலைத்தன்மை கொண்டது. இருப்பினும், வெற்று கிராஃபைட் செயல்முறை வாயுக்களுடன் வினைபுரியலாம், ஆக்ஸிஜனேற்றம் செய்யலாம், அசுத்தங்களை வெளியிடலாம் அல்லது மேற்பரப்பு சிதைவதால் துகள்களை உருவாக்கலாம்.
CVD SiC அந்த மேற்பரப்பு நிலையை மாற்றுகிறது. சிலிக்கான் கார்பைடு, கிராஃபைட் மற்றும் செயல்முறை சூழலுக்கு இடையே ஒரு தடையை உருவாக்கி, இயந்திர கிராஃபைட் உடலின் மீது அடர்த்தியான பாலிகிரிஸ்டலின் அடுக்காக டெபாசிட் செய்யப்படுகிறது.
செயல்முறை எரிவாயு / வேஃபர் → அடர்த்தியான CVD SiC மேற்பரப்பு → SiC/கிராஃபைட் இடைமுகம் → உயர்-தூய்மை கிராஃபைட் உடல்
கிராஃபைட் கட்டமைப்பு உடல், வெப்ப நிறை மற்றும் இயந்திரத்தன்மை ஆகியவற்றை வழங்குகிறது; SiC செயல்முறை எதிர்கொள்ளும் மேற்பரப்பை வழங்குகிறது. இடைமுகம் படிவு, குளிரூட்டல் மற்றும் மீண்டும் மீண்டும் அணு உலை சுழற்சிகளைத் தக்கவைக்க வேண்டும்.
SGL கார்பன் வணிக SiC பூச்சுகளை ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட்டில் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட அடர்த்தியான, தேய்மான மற்றும் அரிப்பை-எதிர்ப்பு CVD அடுக்குகள் என விவரிக்கிறது, பயன்பாடுகள் செமிகண்டக்டர் படிக வளர்ச்சி, சிலிக்கான்/SiC எபிடாக்ஸி மற்றும்MOCVD.
இதனால்தான் குறைக்கடத்தி தர SiC- பூசப்பட்ட பாகங்கள் என மதிப்பிடப்பட வேண்டும்பொறிக்கப்பட்ட பொருள் அமைப்புகள், வெறுமனே "பூச்சு கொண்ட கிராஃபைட்" என்று அல்ல.
![]()
ஒப்பீடு
CVD SiC-கோடட் கிராஃபைட்
திட SiC கூறு
அடிப்படை கட்டமைப்பு
SiC மேற்பரப்பு அடுக்கு கொண்ட கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறு
கூறு உடல் முழுவதும் SiC பொருள்
உற்பத்தி
கிராஃபைட் எந்திரம் + CVD பூச்சு
சின்டரிங், வினைப் பிணைப்பு அல்லது CVD, தரத்தைப் பொறுத்து
வெப்ப நடத்தை
கலப்பு பொருள் அமைப்பு
தரம் சார்ந்த ஒற்றைக்கல் அமைப்பு
முக்கிய வடிவமைப்பு கவலை
பூச்சு ஒட்டுதல் மற்றும் இடைமுக ஒருமைப்பாடு
மொத்த பொருள் பண்புகள் மற்றும் கட்டமைப்பு ஒருமைப்பாடு
வழக்கமான பயன்பாடுகள்
எபிடாக்ஸி சஸ்செப்டர்கள் மற்றும் வேஃபர் கேரியர்கள்
தேர்ந்தெடுக்கப்பட்ட குறைக்கடத்தி பீங்கான் அறை மற்றும் உலை பாகங்கள்
தேர்வு அடிப்படை
பூச்சு, கிராஃபைட், வடிவியல் மற்றும் செயல்முறை
SiC தரம், உற்பத்தி முறை மற்றும் செயல்முறை இணக்கத்தன்மை
கிராஃபைட்டின் உற்பத்தி மற்றும் வெப்ப நன்மைகளை கோரும் குறைக்கடத்தி நிலைமைகளுக்கு மிகவும் பொருத்தமான மேற்பரப்புடன் இணைப்பதே இதன் நோக்கமாகும்.
ஒரு கிராஃபைட் சசெப்டர் அல்லது வேஃபர் கேரியரை இறுக்கமான சகிப்புத்தன்மை மற்றும் சிக்கலான பாக்கெட்டுகளுக்கு இயந்திரமாக்க முடியும். CVD SiC பின்னர் செயல்முறை வாயுக்கள் மற்றும் சுத்தம் செய்ய வெளிப்படும் மேற்பரப்பு பாதுகாக்கிறது. இந்த கலவையானது நான்கு முக்கிய கவலைகளை நிவர்த்தி செய்கிறது.
மாசு கட்டுப்பாடு.அடர்த்தியான, உயர்-தூய்மை மேற்பரப்பு செதில் சூழலில் இருந்து அடிப்படை கிராஃபைட்டை தனிமைப்படுத்த உதவுகிறது.
இரசாயன ஆயுள்.எபிடாக்ஸி மற்றும் MOCVD ஆக்கிரமிப்பு முன்னோடிகள் மற்றும் துப்புரவு வேதியியலைப் பயன்படுத்துகின்றன; வெளிப்படும் கிராஃபைட்டுடன் ஒப்பிடும்போது SiC எதிர்ப்பை மேம்படுத்துகிறது.
துகள் கட்டுப்பாடு.விரிசல், உரித்தல் அல்லது மேற்பரப்பு சிதைவு ஆகியவை துகள் மூலங்களாக மாறலாம், எனவே பூச்சு ஒருமைப்பாடு நேரடியாக தூய்மையைச் செயலாக்க முக்கியம்.
வெப்ப மறுநிகழ்வு.சஸ்செப்டர்கள் மற்றும் கேரியர்கள் உலை வெப்ப புலத்தின் ஒரு பகுதியாகும். அவற்றின் வடிவியல் மற்றும் மேற்பரப்பு நிலை நிலையானதாக இருக்க வேண்டும், எனவே செதில் வெப்பநிலை மீண்டும் மீண்டும் இருக்கும்.
எபிடாக்ஸி மற்றும் எம்ஓசிவிடியில் பயன்படுத்தப்படும் கிராஃபைட் உபகரணங்களுக்கான முக்கிய இயக்கத் தேவைகளாக அதிக வெப்பநிலை, அதிக வெற்றிடம், ஆக்கிரமிப்பு வாயு முன்னோடிகள், மாசு கட்டுப்பாடு மற்றும் அமிலங்களை சுத்தம் செய்வதற்கான எதிர்ப்பு ஆகியவற்றை மெர்சன் அடையாளம் காட்டுகிறது. பூச்சு ஒருமைப்பாட்டிற்கு முக்கியமானதாக கிராஃபைட்/SiC CTE இணக்கத்தன்மையையும் இது எடுத்துக்காட்டுகிறது.
பூச்சு தரத்தை ஏன் பிரிக்க முடியாது என்பதை இது விளக்குகிறதுகிராஃபைட் தரம், பரிமாண துல்லியம் அல்லது உலை நிலைமைகள். சிதைந்த அல்லது மோசமாக வடிவமைக்கப்பட்ட கூறுகளின் மீது வேதியியல் ரீதியாக சிறந்த SiC அடுக்கு இன்னும் மோசமான செயல்முறை செயல்திறனை வழங்கக்கூடும்.
![]()
ஒரு பொதுவான உற்பத்தி சங்கிலி:
கிராஃபைட் தேர்வு → துல்லிய எந்திரம் → சுத்திகரிப்பு → மேற்பரப்பு தயாரிப்பு → CVD SiC டெபாசிஷன் → ஆய்வு
கிராஃபைட் தூய்மை, நுண் கட்டமைப்பு மற்றும் வெப்ப நடத்தைக்கு தேர்ந்தெடுக்கப்பட்டது, பின்னர் பூச்சுக்கு முன் இயந்திரம் செய்யப்படுகிறது, ஏனெனில் தட்டையான தன்மை, பாக்கெட் ஆழம் மற்றும் விளிம்பு வடிவியல் ஆகியவை இறுதி பரிமாணங்களையும் பூச்சு சீரான தன்மையையும் பாதிக்கிறது.
CVD இன் போது, வாயு முன்னோடிகள் உயர் வெப்பநிலை உலைக்குள் நுழைகின்றன. எதிர்வினை இனங்கள் கிராஃபைட் மேற்பரப்பை அடைகின்றன, அங்கு SiC அணுக்கரு மற்றும் தொடர்ச்சியான அடுக்காக வளர்கிறது.
SGL கார்பன் பொதுவான SiC படிவு வெப்பநிலையை தோராயமாக பொதுவில் தெரிவிக்கிறது1,200–1,300°Cஅதன் வணிக பூச்சு செயல்முறைக்கு. இது ஒரு பூச்சு அமைப்புக்கு β-SiC, அல்லது கன 3C-SiC ஐ தெரிவிக்கிறது.
CVD-SiC- பூசப்பட்ட கிராஃபைட் சஸ்செப்டர்கள் பற்றிய சமீபத்திய ஆராய்ச்சி, பூச்சு அமைப்பு செயலாக்க நிலைமைகளைப் பொறுத்தது என்பதை மேலும் நிரூபிக்கிறது.
ஏ 2026அறிவியல் அறிக்கைகள்இருந்து படிவு ஆய்வு ஆய்வு1,100 முதல் 1,350°C வரை, அழுத்தம் மற்றும் H₂/MTS விகிதத்தில் ஏற்படும் மாற்றங்களுடன். பூச்சு உருவவியல், கடினத்தன்மை, ஸ்டோச்சியோமெட்ரி மற்றும் கடினத்தன்மை ஆகியவற்றில் குறிப்பிடத்தக்க மாற்றங்களை ஆராய்ச்சியாளர்கள் கவனித்தனர், இது இடையேயான உறவை நிரூபிக்கிறது:
CVD அளவுருக்கள் → SiC மைக்ரோஸ்ட்ரக்சர் → பூச்சு பண்புகள் → கூறு செயல்திறன்.
முக்கியமான பொறியியல் பாடம் அது"CVD SiC" என்பது ஒரு நிலையான பொருள் அல்ல.
இது போன்ற ஒரு விவரக்குறிப்பு:
"100 μm SiC பூச்சு"
தடிமன் மட்டுமே விவரிக்கிறது.
இது முழுமையாக வரையறுக்கப்படவில்லை:
l தூய்மை;
l போரோசிட்டி;
l தானிய அமைப்பு;
l மேற்பரப்பு கடினத்தன்மை;
l பூச்சு சீரான தன்மை;
l இடைமுகத்தின் தரம்;
l மீதமுள்ள மன அழுத்தம்.
குறைக்கடத்தி உபகரணங்களுக்கு, அந்த காரணிகள் பெயரளவு தடிமன் போன்ற முக்கியமானதாக இருக்கலாம்.
பிரச்சனை
சாத்தியமான காரணம்
பரிந்துரைக்கப்பட்ட மதிப்பீடு
விரிசல்
வெப்ப அழுத்தம், பூச்சு குறைபாடுகள்
வெப்ப சுழற்சி வரலாறு மற்றும் நுண்ணிய ஆய்வு
நீக்குதல்
இடைமுகம் பலவீனம், மன அழுத்தம் பொருத்தமின்மை
குறுக்கு வெட்டு பரிசோதனை
பின் துளைகள்
அணுக்கரு அல்லது கவரேஜ் குறைபாடுகள்
SEM அல்லது பொருத்தமான மேற்பரப்பு ஆய்வு
சீரற்ற தடிமன்
வாயு ஓட்டம் அல்லது வடிவியல் விளைவுகள்
தடிமன் மேப்பிங்
துகள் உருவாக்கம்
பூச்சு சேதம் அல்லது மேற்பரப்பு வைப்பு
துகள்-மூலம் மற்றும் மேற்பரப்பு பகுப்பாய்வு
![]()
குறைக்கடத்தி பயன்பாட்டிற்கு, மிகவும் பயனுள்ள பண்புகள் மாசு கட்டுப்பாடு, செயல்முறை நிலைத்தன்மை மற்றும் கூறு வாழ்நாள் ஆகியவற்றுடன் இணைக்கப்பட்டுள்ளன.
|
சொத்து |
பொறியியல் முக்கியத்துவம் |
|
தூய்மை |
செயல்முறை மேற்பரப்பில் மாசுபடுவதை கட்டுப்படுத்துகிறது |
|
அடர்த்தி / போரோசிட்டி |
தடை ஒருமைப்பாட்டைக் கட்டுப்படுத்துகிறது |
|
தடிமன் |
பாதுகாப்பு, பரிமாணங்கள் மற்றும் மன அழுத்தத்தை பாதிக்கிறது |
|
தடிமன் சீரான தன்மை |
பாக்கெட்டுகள், விளிம்புகள் மற்றும் சிக்கலான வடிவவியலில் உள்ள விஷயங்கள் |
|
மேற்பரப்பு கடினத்தன்மை |
வைப்பு, சுத்தம் மற்றும் துகள்களை பாதிக்கிறது |
|
CTE |
கிராஃபைட்டுடன் வெப்பப் பொருத்தமின்மையைக் கட்டுப்படுத்துகிறது |
|
கடினத்தன்மை |
உடைகள் எதிர்ப்பை ஆதரிக்கிறது |
|
தானிய அமைப்பு |
படிவு நிலைமைகளை பிரதிபலிக்கிறது |
|
இரசாயன எதிர்ப்பு |
எதிர்வினை வாயுக்களிலிருந்து கிராஃபைட்டைப் பாதுகாக்கிறது |
|
வெப்ப நிலைத்தன்மை |
மீண்டும் மீண்டும் அதிக வெப்பநிலை சைக்கிள் ஓட்டுதலை ஆதரிக்கிறது |
ஒரு பொது வணிக அளவுகோலாக, SGL கார்பன் ஒரு SiC பூச்சுக்கான மொத்த அடர்த்தி தோராயமாக அறிக்கை செய்கிறது3.2 g/cm³, கடினத்தன்மை40 GPa, வெப்ப விரிவாக்கம்4.3 × 10^-6 K^-1100-600 டிகிரி செல்சியஸ் மற்றும் ஒரு பொதுவான பூச்சு தடிமன்100 μm. இந்த மதிப்புகள் உலகளாவிய குறைக்கடத்தி விவரக்குறிப்புகளை விட எடுத்துக்காட்டுகள்.
இரண்டு அளவுருக்கள் சிறப்பு கவனம் தேவை:பூச்சு தடிமன் மற்றும் CTE.
1. தடிமனான SiC பூச்சு தானாகவே சிறப்பாக இருக்காது.
கூடுதல் தடிமன் ஒரு பெரிய பாதுகாப்பு தடையை வழங்கலாம், ஆனால் இது கூறுகளின் பரிமாணங்களை மாற்றலாம் மற்றும் திரட்டப்பட்ட எஞ்சிய அழுத்தத்தை அதிகரிக்கலாம். இது susceptors மற்றும் முக்கியமானதாகிறதுசெதில் கேரியர்கள்பாக்கெட் ஆழம், தட்டையான தன்மை மற்றும் விளிம்பு வடிவியல் ஆகியவை செயல்முறைக்கு முக்கியமானவை.
2. CTE பொருத்தம் சமமாக முக்கியமானது.
SiC உயர் வெப்பநிலையில் டெபாசிட் செய்யப்பட்டு பின்னர் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுடன் சேர்ந்து குளிர்கிறது. SiC மற்றும் கிராஃபைட் வித்தியாசமாக விரிவடைந்து சுருங்கினால், இடைமுகத்திற்கு அருகில் இயந்திர அழுத்தம் உருவாகிறது.
ஒரு எளிமையான தோல்வி பாதை:
CTE பொருத்தமின்மை → எஞ்சிய அழுத்தம் → மைக்ரோகிராக் → விரிசல் பரவுதல் → டிலமினேஷன் → துகள்கள் / வெளிப்பட்ட கிராஃபைட்
தடிமன் அதிகரிப்பதன் மூலம் பூச்சு தோல்வியை எப்போதும் தீர்க்க முடியாது என்பதை இந்த வழிமுறை விளக்குகிறது.
ஏ 2026செராமிக்ஸ் இன்டர்நேஷனல்ஆய்வு குறிப்பாக 1,260 ° C, 1,280 ° C மற்றும் 1,320 ° C இல் கிராஃபைட்டில் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட SiC ஐ ஆய்வு செய்தது மற்றும் படிவு வெப்பநிலை நுண் கட்டமைப்பு மற்றும் இடைமுக ஒட்டுதலை பாதித்தது.
எனவே, பூச்சு தரம் பின்வரும் கலவையால் தீர்மானிக்கப்பட வேண்டும்:
தூய்மை + நுண் கட்டமைப்பு + சீரான தன்மை + இடைமுக ஒருமைப்பாடு + வடிவியல்
தடிமன் மட்டும் விட.
வலுவான பயன்பாடுகள் அதிக வெப்பநிலை, எதிர்வினை வேதியியல் மற்றும் கடுமையான செதில்-நிலை தேவைகளை எதிர்கொள்ளும் கூறுகள் ஆகும்.
1. சிலிக்கான் எபிடாக்ஸி
SiC-பூசப்பட்ட கிராஃபைட் சஸ்செப்டர்கள் வெப்ப பரிமாற்றத்தில் பங்கேற்கும் போது செதில்களை ஆதரிக்கின்றன. தட்டையான தன்மை, பாக்கெட் வடிவியல், பூச்சு சீரான தன்மை மற்றும் மேற்பரப்பு நிலை ஆகியவை செதில் வெப்பநிலை மற்றும் எபிடாக்சியல் சீரான தன்மையை பாதிக்கலாம்.
எனவே பூச்சு ஒரு பரந்த வெப்ப அமைப்பின் ஒரு பகுதியாகும்:
ஹீட்டர் / ஆற்றல் மூலம் → சஸ்பெப்டர் → வேஃபர் வெப்ப எல்லை
2. சிலிக்கான் கார்பைடு எபிடாக்ஸி
SiC epitaxy குறிப்பாக வெப்ப-புலப் பொருட்களுக்கான தேவைகளைக் கோருகிறது. சஸ்செப்டர்கள், மோதிரங்கள் மற்றும் தொடர்புடைய கூறுகள் மீண்டும் மீண்டும் அதிக வெப்பநிலை செயல்பாட்டின் மூலம் இரசாயன நிலைத்தன்மை, குறைந்த மாசுபாடு மற்றும் பரிமாண நிலைத்தன்மையை பராமரிக்க வேண்டும்.
3. GaN மற்றும் LED MOCVD
MOCVD வேஃபர் கேரியர்கள் மற்றும் செயற்கைக்கோள் இயங்குதளங்கள் முன்னோடி நிறைந்த சூழல்களில் இயங்குகின்றன, அங்கு கேரியர் வெப்பநிலை விநியோகம் செதில் முழுவதும் வளர்ச்சி நிலைமைகளை பாதிக்கிறது.
கேரியர் வடிவவியலில் அல்லது மேற்பரப்பு நிலையில் ஏற்படும் மாற்றங்கள் இதில் உள்ள மாறுபாடுகளுக்கு பங்களிக்கலாம்:
l செதில் வெப்பநிலை;
l வளர்ச்சி விகிதம்;
l படத்தின் தடிமன்;
l கலவை;
l wafer-to-wafer ஒற்றுமை.
மெர்சன் குறிப்பாக உயர்-தூய்மை SiC- பூசப்பட்ட கிராஃபைட், சீரான வெப்ப நடத்தை, ஆக்கிரமிப்பு வாயுக்களுக்கு எதிர்ப்பு மற்றும் எபிடாக்சி பயன்பாடுகளுக்கான முக்கியமான தேவைகளாக உள்ள இடத்தில் இரசாயன சுத்தம் செய்வதற்கு எதிரான நீடித்து நிலைத்தன்மை ஆகியவற்றைக் குறிப்பிடுகிறது.
4. மற்ற உயர் வெப்பநிலை செயல்முறைகள்
தேர்ந்தெடுக்கப்பட்ட RTP/RTA, CVD, ALD மற்றும் பிற வெப்ப-புல கூறுகள் வெப்பநிலை, வேதியியல், மாசுபடுத்தும் அபாயம் மற்றும் வடிவியல் ஆகியவற்றை நியாயப்படுத்தும் போது SiC-பூசப்பட்ட கிராஃபைட்டைப் பயன்படுத்தலாம்.
தேர்வு தொடங்க வேண்டும்உலை மற்றும் செயல்முறை, பொதுவான பூச்சு விவரக்குறிப்பு அல்ல.
வரையறுக்க:
l செயல்முறை மற்றும் உலை மாதிரி;
l செதில் அளவு;
l இயக்க வெப்பநிலை;
l செயல்முறை மற்றும் சுத்தம் வாயுக்கள்;
l கூறு வரைதல்;
l கிராஃபைட் தேவை;
l முக்கியமான பரிமாணங்கள் மற்றும் தட்டையான தன்மை;
l பூச்சு தடிமன்;
l மேற்பரப்பு கடினத்தன்மை;
l ஆய்வு தேவைகள்.
மிகவும் பயனுள்ள RFQ ஒரு மையக் கேள்வியைக் கேட்கிறது:
உலைக்குள் இந்தக் கூறு என்ன செய்ய வேண்டும்?
SiC பூச்சு பின்னர் ஒரு தனிமைப்படுத்தப்பட்ட பொருள் அளவுருவை விட உண்மையான நோக்கத்தைச் சுற்றி வடிவமைக்கப்படலாம்.
எபிடாக்ஸி மற்றும் MOCVD க்கு, இலக்கு நீண்ட காலம் நீடிக்கும் பூச்சு அல்ல. இது ஆதரிக்கும் திறன் கொண்ட ஒரு கூறு:
நிலையான செதில் வெப்பநிலை + குறைந்த மாசுபாடு + குறைந்த துகள் உருவாக்கம் + மீண்டும் மீண்டும் வளர்ச்சி + கணிக்கக்கூடிய சேவை வாழ்க்கை
6. அடிக்கடி கேட்கப்படும் கேள்விகள்
கிராஃபைட் உடலின் இயந்திரத்திறன் மற்றும் வெப்ப நன்மைகளைத் தக்கவைத்துக்கொள்ளும் அதே வேளையில், இது உயர்-தூய்மை, வேதியியல் ரீதியாக எதிர்க்கும் செயல்முறை மேற்பரப்பை உருவாக்குகிறது.
CVD ஆனது SiC ஐ சிக்கலான கிராஃபைட் பரப்புகளில் நேரடியாக வளர அனுமதிக்கிறது மற்றும் படிவு செயல்முறை சரியாக வடிவமைக்கப்படும் போது பூச்சு அமைப்பு, தடிமன் மற்றும் சீரான தன்மை ஆகியவற்றின் மீது கட்டுப்பாட்டை வழங்குகிறது.
எண். எஞ்சிய அழுத்தம், பரிமாண சகிப்புத்தன்மை, கூறு வடிவியல் மற்றும் சேவை நிலைமைகளுக்கு எதிராக தடிமன் சமநிலையில் இருக்க வேண்டும்.
பொதுவான பங்களிப்பாளர்களில் கிராஃபைட்/SiC CTE பொருத்தமின்மை, எஞ்சிய அழுத்தம், இடைமுக குறைபாடுகள், பொருத்தமற்ற படிவு நிலைகள் மற்றும் மீண்டும் மீண்டும் வெப்ப சுழற்சி ஆகியவை அடங்கும்.
வரைதல், உலை மாதிரி, செயல்முறை, செதில் அளவு, இயக்க வெப்பநிலை, செயல்முறை மற்றும் சுத்தம் வாயுக்கள், கிராஃபைட் தேவை, பூச்சு விவரக்குறிப்பு, முக்கியமான சகிப்புத்தன்மை, ஆய்வு அளவுகோல்கள் மற்றும் அளவு ஆகியவற்றை வழங்கவும்.
தனிப்பயன் CVD SiC-கோடட் கிராஃபைட் கூறு வேண்டுமா?
VeTek செமிகண்டக்டர், குறைக்கடத்தி எபிடாக்ஸி மற்றும் தொடர்புடைய உயர்-வெப்பநிலை செயலாக்க பயன்பாடுகளுக்கு SiC-பூசப்பட்ட கிராஃபைட் கூறுகளை வழங்குகிறது.
பொருத்தமான தீர்வைப் பற்றி விவாதிக்க உங்கள் உலை மாதிரி, கூறு வரைபடங்கள், கிராஃபைட் தேவைகள், பூச்சு விவரக்குறிப்புகள், இயக்க நிலைமைகள் மற்றும் ஆய்வு அளவுகோல்களைப் பகிரவும்.
தொழில்நுட்ப ஆலோசனையைக் கோருங்கள்| உங்கள் வரைபடத்தை சமர்ப்பிக்கவும்
எங்கள் சிலிக்கான் கார்பைடு பூச்சு தயாரிப்பு வரம்பை ஆராயுங்கள்.
1. எஸ்ஜிஎல் கார்பன். SIGRAFINE® SiC பூச்சுகள்.ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட்டில் CVD SiC பூச்சுகளுக்கான தொழில்நுட்பத் தரவு மற்றும் பயன்பாட்டுத் தகவல்.
2. மெர்சன். செமிகண்டக்டர் செயல்முறை உபகரணங்கள் — சிலிக்கான் கார்பைடுடன் பூசப்பட்ட அல்ட்ரா-தூய கிராஃபைட்.எபிடாக்ஸி மற்றும் MOCVD பயன்பாடுகளுக்கான தொழில்நுட்ப தகவல்.
3. Huo, Y., Qin, S., Chen, Y., மற்றும் பலர். "கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுகளில் CVD-SiC பூச்சுகளில் செயல்முறை-கட்டமைப்பு-சொத்து தொடர்பு பற்றிய ஆய்வு."அறிவியல் அறிக்கைகள், தொகுதி. 16, பிரிவு 4150, 2026.
4. மா, கே., மற்றும் பலர். "கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுகளில் CVD-SiC பூச்சுகளின் இடைமுக ஒட்டுதல்: நுண் கட்டமைப்பு மற்றும் இயந்திர பண்புகளில் வெப்பநிலையின் பங்கு."செராமிக்ஸ் இன்டர்நேஷனல், தொகுதி. 52, வெளியீடு 3, 2026, பக். 3711–3718.
+86-579-87223657
வாங்டா சாலை, ஜியாங் தெரு, வுயி கவுண்டி, ஜின்ஹுவா நகரம், ஜெஜியாங் மாகாணம், சீனா
பதிப்புரிமை © 2024 WuYi TianYao புதிய பொருள் Tech.Co.,Ltd. அனைத்து உரிமைகளும் பாதுகாக்கப்பட்டவை.
Links | Sitemap | RSS | XML | தனியுரிமைக் கொள்கை |