ஃபேப் விளைச்சலை அதிகப்படுத்துதல்: ஏன் CVD Solid SiC என்பது முக்கியமான அறை பாகங்களுக்கான இறுதித் தேர்வாகும்

மேம்பட்ட குறைக்கடத்தி உற்பத்தியில், தொழில்துறையானது "கிராஃபைட் + எஸ்ஐசி கோட்டிங்" அமைப்புகளில் இருந்து ஒவ்வொரு கடைசி துளி செயல்திறனையும் பிழிந்துள்ளது. இது பல ஆண்டுகளாக வேலை செய்தது, ஆனால் நாம் 3nm மற்றும் அதற்கு அப்பால் தள்ளும்போது, ​​அடி மூலக்கூறுக்கும் கேடயத்திற்கும் இடையிலான பழைய இடைமுகம் பெரும் தலைவலியாக மாறி வருகிறது. CTE பொருத்தமின்மை என்பது ஒரு கோட்பாட்டுப் பிரச்சனை அல்ல - இது ஒரு மகசூல் கொல்லியாகும், இது மைக்ரோ கிராக்களை ஏற்படுத்தும்.

அதனால்தான் மோனோலிதிக் சிவிடி சாலிட் எஸ்ஐசியை நோக்கிய மாற்றம் ஒரு போக்கை விட அதிகம்; அது ஒரு இயந்திரத் தேவை. நாங்கள் ஒரு எளிய மேற்பரப்பு சிகிச்சையிலிருந்து தரையில் இருந்து வளர்ந்த முழுமையான கட்டமைப்புப் பொருளுக்கு நகர்கிறோம்.

1. முக்கிய செயல்முறை: உயர்-தூய்மை CVD திட SiC ஐ ஒருங்கிணைத்தல்

ஒரு தூய CVD சாலிட் SiC இங்காட்டை உருவாக்குவது நிலையான படிவுகளுடன் ஒப்பிடும்போது முற்றிலும் வேறுபட்ட மிருகமாகும். இது Methyltrichlorosilane (MTS) உடன் தொடங்குகிறது, ஆனால் காலப்போக்கில் எதிர்வினையின் நிலைத்தன்மையில் மந்திரம் நிகழ்கிறது.

• நீராவி கட்டம் மொத்தமாக:சிலிக்கான் மற்றும் கார்பன் அணுக்கள் அடர்த்தியான பீட்டா-SiC லட்டுக்குள் பூட்டிக்கொள்ளும் அந்த 1200°C+ ஸ்வீட் ஸ்பாட்டைத் தாக்கும் வெப்பநிலையைப் பார்க்கிறோம்.
• நேரக் காரணி:விரைவான 100μm பூச்சு போலல்லாமல், ஒரு திடமான பகுதி தொடர்ச்சியான, நிலையான வளர்ச்சிக்கு நாட்கள்-சில நேரங்களில் வாரங்கள் எடுக்கும். நீங்கள் இயற்பியலில் அவசரப்பட முடியாது.
• துல்லிய பொறியியல்:வளர்ச்சி முடிந்ததும், தூய CVD Solid SiC இங்காட்டை வழங்க அடி மூலக்கூறு அகற்றப்படும். இந்த இங்காட், CVD Solid SiC Focus Rings போன்ற உயர்-சகிப்புத்தன்மை கொண்ட பாகங்களை உருவாக்க வைர-கருவி எந்திரத்திற்கு உட்பட்டது.

கட்டமைப்பு வரைபடம்:படத்தில் விளக்கப்பட்டுள்ளபடி, CVD Solid SiC கூறுகளை உருவாக்குவதற்கு வடிவியல் நோக்குநிலையின் மீது முழுமையான கட்டுப்பாடு தேவைப்படுகிறது. படிவு அளவுருக்களை மேம்படுத்துவதன் மூலம், அனைத்து பரிமாணங்களிலும் (முதல் மற்றும் இரண்டாவது திசைகள்) பொருள் மிகவும் சீரான இயற்பியல் பண்புகளைக் கொண்டிருப்பதை உறுதிசெய்கிறோம். இந்த கட்டமைப்பு நிலைத்தன்மையானது, எந்திரத்திற்குப் பிறகு விதிவிலக்கான தட்டையானது மற்றும் மேற்பரப்பு செங்குத்தாகப் பராமரிக்கப்படுவதை உறுதிசெய்கிறது, 8-இன்ச் மற்றும் 12-அங்குல உயர்-அங்குல உற்பத்திக் கோடுகளின் கடுமையான சகிப்புத்தன்மையை முழுமையாக பூர்த்தி செய்கிறது.

2. ஏன் CVD Solid SiC ஐ தேர்வு செய்ய வேண்டும்?

Sintered SiC அல்லது பாரம்பரிய பூச்சுகளுடன் ஒப்பிடும்போது, ​​CVD Solid SiC இணையற்ற நன்மைகளை வழங்குகிறது:

• அல்ட்ரா-ஹை தூய்மை (5N-7N):இது ஒரு வாயு-கட்ட செயல்முறை என்பதால், பூஜ்ஜிய சின்டரிங் எய்ட்ஸ் அல்லது மெட்டாலிக் பைண்டர்கள் உள்ளன. பைண்டர்கள் இல்லை என்றால் கேட் ஆக்சைடுக்குள் உலோக அயனி இடம்பெயர்வு இல்லை.
• அருகிலுள்ள கோட்பாட்டு அடர்த்தி:CVD செயல்முறையானது கிட்டத்தட்ட பூஜ்ஜிய போரோசிட்டி (<0.1%) கொண்ட ஒரு பொருளை உருவாக்குகிறது. இந்த அதீத அடர்த்தியானது CVD Solid SiCயை பிளாஸ்மா அரிப்பை விதிவிலக்காக எதிர்க்கச் செய்கிறது, இது செதுக்கும் செயல்பாட்டின் போது துகள் உற்பத்தியைக் கணிசமாகக் குறைக்கிறது.
• வெப்ப அழுத்தத்தை நீக்குதல்:ஒற்றை-கட்ட பீட்டா-SiC இன் ஒரு ஒற்றைப் பாகமாக இருப்பதால், இந்த பொருள் விரைவான வெப்ப சுழற்சிகளின் போது பூச்சு நீக்கம் அல்லது "உரித்தல்" அபாயத்தை நீக்குகிறது, இது க்ளீன்ஸ் (MTBC) இடையே சராசரி நேரத்தை கடுமையாக நீட்டிக்கிறது.

3. முக்கிய பயன்பாட்டு புலங்கள்

உயர் தூய்மையான CVD Solid SiC பொருட்கள் அதிக அழுத்த சூழல்களுக்கு அவசியம்:

• பிளாஸ்மா பொறித்தல்:உயர்நிலை CVD சாலிட் SiC ஃபோகஸ் ரிங்க்ஸ் மற்றும் கேஸ் ஷவர்ஹெட்ஸ் ஆகியவை CF4/O2 பிளாஸ்மாக்களுக்கு சிறந்த எதிர்ப்பை வழங்குகின்றன.
• எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி (EPI):உறிஞ்சிகளுக்கான உயர் செயல்திறன் மாற்றாக, சீரான வெப்ப விநியோகத்தை வழங்குகிறது.
• விரைவான வெப்ப செயலாக்கம் (RTP):செதில் சீரான தன்மையை உறுதி செய்தல் மற்றும் தீவிர வெப்பநிலை சரிவுகளின் போது மாசுபடுவதைத் தடுப்பது.

4.முடிவு

CVD Solid SiC செயல்முறையானது அதிக ஆரம்ப உற்பத்தி வரம்பை உள்ளடக்கியிருந்தாலும், முதலீட்டின் மீதான விரிவான வருமானம் (ROI) தெளிவாக உள்ளது. முக்கியமான நுகர்பொருட்களின் சேவை ஆயுளை கணிசமாக நீட்டிப்பதன் மூலமும், வேஃபர் ஸ்கிராப் விகிதங்களைக் குறைப்பதன் மூலமும், CVD Solid SiC நீண்ட கால செலவுக் குறைப்பு மற்றும் செயல்திறன் ஆதாயங்களை அடைய ஃபேப்களுக்கு அதிகாரம் அளிக்கிறது.