தயாரிப்புகள்

Vetek CVD TaC கோடட் சஸ்பெப்டர் என்பது உயர் செயல்திறன் கொண்ட MOCVD எபிடாக்சியல் வளர்ச்சிக்காக குறிப்பாக உருவாக்கப்பட்ட ஒரு துல்லியமான தீர்வாகும். இது 1600 டிகிரி செல்சியஸ் தீவிர உயர் வெப்பநிலை சூழல்களில் சிறந்த வெப்ப நிலைத்தன்மை மற்றும் இரசாயன செயலற்ற தன்மையை நிரூபிக்கிறது. VETEK இன் கடுமையான CVD படிவு செயல்முறையை நம்பி, செதில் வளர்ச்சியின் சீரான தன்மையை மேம்படுத்தவும், முக்கிய கூறுகளின் சேவை ஆயுளை நீட்டிக்கவும், உங்கள் ஒவ்வொரு செமிகண்டக்டர் உற்பத்திக்கும் நிலையான மற்றும் நம்பகமான செயல்திறன் உத்தரவாதங்களை வழங்கவும் நாங்கள் கடமைப்பட்டுள்ளோம்.

Veteksemicon Solid Silicon Carbide (SiC) ஃபோகசிங் ரிங் என்பது மேம்பட்ட குறைக்கடத்தி எபிடாக்ஸி மற்றும் பிளாஸ்மா பொறித்தல் செயல்முறைகளில் பயன்படுத்தப்படும் ஒரு முக்கியமான நுகர்வு கூறு ஆகும், இதில் பிளாஸ்மா விநியோகம், வெப்ப சீரான தன்மை மற்றும் செதில் விளிம்பு விளைவுகள் ஆகியவற்றின் துல்லியமான கட்டுப்பாடு அவசியம். உயர்-தூய்மை திட சிலிக்கான் கார்பைடிலிருந்து தயாரிக்கப்பட்ட, இந்த கவனம் செலுத்தும் வளையம் விதிவிலக்கான பிளாஸ்மா அரிப்பு எதிர்ப்பு, உயர் வெப்பநிலை நிலைத்தன்மை மற்றும் இரசாயன செயலற்ற தன்மை ஆகியவற்றை வெளிப்படுத்துகிறது, ஆக்கிரமிப்பு செயல்முறை நிலைமைகளின் கீழ் நம்பகமான செயல்திறனை செயல்படுத்துகிறது. உங்கள் விசாரணையை எதிர்நோக்குகிறோம்.

சிலிக்கான் கார்பைடு படிக வளர்ச்சி என்பது உயர் செயல்திறன் கொண்ட குறைக்கடத்தி சாதனங்களின் உற்பத்தியில் ஒரு முக்கிய செயல்முறையாகும். படிக வளர்ச்சி உபகரணங்களின் நிலைத்தன்மை, துல்லியம் மற்றும் இணக்கத்தன்மை சிலிக்கான் கார்பைடு இங்காட்களின் தரம் மற்றும் விளைச்சலை நேரடியாக தீர்மானிக்கிறது. இயற்பியல் நீராவி போக்குவரத்து (PVT) தொழில்நுட்பத்தின் சிறப்பியல்புகளின் அடிப்படையில், Veteksemi சிலிக்கான் கார்பைடு படிக வளர்ச்சிக்கான எதிர்ப்பு வெப்பமூட்டும் உலையை உருவாக்கியுள்ளது, இது 6-இன்ச், 8-இன்ச் மற்றும் 12-இன்ச் சிலிக்கான் கார்பைடு படிகங்களின் நிலையான வளர்ச்சியை செயல்படுத்துகிறது. வெப்பநிலை, அழுத்தம் மற்றும் சக்தி ஆகியவற்றின் துல்லியமான கட்டுப்பாட்டின் மூலம், இது EPD (Etch Pit Density) மற்றும் BPD (Basal Plane Dislocation) போன்ற படிகக் குறைபாடுகளை திறம்பட குறைக்கிறது, அதே நேரத்தில் குறைந்த ஆற்றல் நுகர்வு மற்றும் தொழில்துறை பெரிய அளவிலான உற்பத்தியின் உயர் தரத்தை பூர்த்தி செய்வதற்கான சிறிய வடிவமைப்பைக் கொண்டுள்ளது.

SiC விதை பிணைப்பு தொழில்நுட்பமானது படிக வளர்ச்சியை பாதிக்கும் முக்கிய செயல்முறைகளில் ஒன்றாகும். இந்த செயல்முறையின் பண்புகளின் அடிப்படையில் விதை பிணைப்பிற்காக VETEK ஒரு சிறப்பு வெற்றிட வெப்ப அழுத்த உலையை உருவாக்கியுள்ளது. உலை விதை பிணைப்பு செயல்பாட்டின் போது உருவாகும் பல்வேறு குறைபாடுகளை திறம்பட குறைக்க முடியும், இதன் மூலம் விளைச்சல் மற்றும் படிக இங்காட்டின் இறுதி தரத்தை மேம்படுத்துகிறது.

Veteksemicon SiC கோடட் எபிடாக்சியல் ரியாக்டர் சேம்பர் என்பது குறைக்கடத்தி எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி செயல்முறைகளை கோருவதற்காக வடிவமைக்கப்பட்ட ஒரு முக்கிய அங்கமாகும். மேம்பட்ட இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) ஐப் பயன்படுத்தி, இந்த தயாரிப்பு அதிக வலிமை கொண்ட கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறில் அடர்த்தியான, உயர்-தூய்மை SiC பூச்சுகளை உருவாக்குகிறது, இதன் விளைவாக உயர்ந்த உயர் வெப்பநிலை நிலைத்தன்மை மற்றும் அரிப்பு எதிர்ப்பு உள்ளது. இது உயர் வெப்பநிலை செயல்முறை சூழல்களில் எதிர்வினை வாயுக்களின் அரிக்கும் விளைவுகளை திறம்பட எதிர்க்கிறது, துகள் மாசுபாட்டை கணிசமாக அடக்குகிறது, நிலையான எபிடாக்சியல் பொருள் தரம் மற்றும் அதிக மகசூலை உறுதி செய்கிறது, மேலும் எதிர்வினை அறையின் பராமரிப்பு சுழற்சி மற்றும் ஆயுட்காலம் ஆகியவற்றை கணிசமாக நீட்டிக்கிறது. SiC மற்றும் GaN போன்ற பரந்த-பேண்ட்கேப் குறைக்கடத்திகளின் உற்பத்தி திறன் மற்றும் நம்பகத்தன்மையை மேம்படுத்த இது ஒரு முக்கிய தேர்வாகும்.

Veteksemicon இலிருந்து சிலிக்கான் கேசட் படகு என்பது ஒரு துல்லியமான-பொறியியல் செதில் கேரியர் ஆகும், இது குறிப்பாக ஆக்ஸிஜனேற்றம், பரவல், இயக்கி மற்றும் அனீலிங் உள்ளிட்ட உயர்-வெப்பநிலை குறைக்கடத்தி உலை பயன்பாடுகளுக்காக உருவாக்கப்பட்டது. அதி-உயர்-தூய்மை சிலிக்கானில் இருந்து தயாரிக்கப்பட்டு, மேம்பட்ட மாசுபடுத்தல்-கட்டுப்பாட்டு தரநிலைகளுக்கு முடிக்கப்பட்டது, இது சிலிக்கான் செதில்களின் பண்புகளுடன் நெருக்கமாக பொருந்தக்கூடிய வெப்ப நிலைத்தன்மையான, இரசாயன மந்த தளத்தை வழங்குகிறது. இந்த சீரமைப்பு வெப்ப அழுத்தத்தை குறைக்கிறது, சறுக்கல் மற்றும் குறைபாடு உருவாவதை குறைக்கிறது மற்றும் தொகுதி முழுவதும் விதிவிலக்காக சீரான வெப்ப விநியோகத்தை உறுதி செய்கிறது