MOCVD தொழில்நுட்பம்

VeTek செமிகண்டக்டர் MOCVD தொழில்நுட்ப உதிரி பாகங்களில் அனுகூலத்தையும் அனுபவத்தையும் கொண்டுள்ளது.

MOCVD, உலோக-கரிம இரசாயன நீராவி படிவு (உலோக-கரிம இரசாயன நீராவி படிவு) என்பதன் முழுப் பெயர், உலோக-கரிம நீராவி நிலை எபிடாக்ஸி என்றும் அழைக்கப்படலாம். ஆர்கனோமெட்டாலிக் கலவைகள் என்பது உலோக-கார்பன் பிணைப்புகளைக் கொண்ட ஒரு வகை சேர்மங்கள் ஆகும். இந்த கலவைகள் ஒரு உலோகத்திற்கும் கார்பன் அணுவிற்கும் இடையே குறைந்தது ஒரு இரசாயன பிணைப்பைக் கொண்டிருக்கின்றன. உலோக-கரிம சேர்மங்கள் பெரும்பாலும் முன்னோடிகளாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன மற்றும் பல்வேறு படிவு நுட்பங்கள் மூலம் அடி மூலக்கூறில் மெல்லிய படலங்கள் அல்லது நானோ கட்டமைப்புகளை உருவாக்கலாம்.

உலோக-கரிம இரசாயன நீராவி படிவு (MOCVD தொழில்நுட்பம்) என்பது ஒரு பொதுவான எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி தொழில்நுட்பமாகும், MOCVD தொழில்நுட்பம் குறைக்கடத்தி லேசர்கள் மற்றும் லெட்ஸ் தயாரிப்பில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது. குறிப்பாக லெட்களை உற்பத்தி செய்யும் போது, ​​காலியம் நைட்ரைடு (GaN) மற்றும் தொடர்புடைய பொருட்களின் உற்பத்திக்கு MOCVD ஒரு முக்கிய தொழில்நுட்பமாகும்.

எபிடாக்ஸியின் இரண்டு முக்கிய வடிவங்கள் உள்ளன: லிக்விட் பேஸ் எபிடாக்ஸி (எல்பிஇ) மற்றும் வேப்பர் ஃபேஸ் எபிடாக்ஸி (விபிஇ). வாயு கட்ட எபிடாக்ஸியை மேலும் உலோக-கரிம இரசாயன நீராவி படிவு (MOCVD) மற்றும் மூலக்கூறு கற்றை எபிடாக்ஸி (MBE) என பிரிக்கலாம்.

வெளிநாட்டு உபகரண உற்பத்தியாளர்கள் முக்கியமாக Aixtron மற்றும் Veeco ஆல் பிரதிநிதித்துவப்படுத்தப்படுகிறார்கள். MOCVD அமைப்பு லேசர்கள், லெட்ஸ், ஒளிமின்னழுத்த கூறுகள், சக்தி, RF சாதனங்கள் மற்றும் சூரிய மின்கலங்களை உற்பத்தி செய்வதற்கான முக்கிய கருவிகளில் ஒன்றாகும்.

எங்கள் நிறுவனத்தால் தயாரிக்கப்பட்ட MOCVD தொழில்நுட்ப உதிரி பாகங்களின் முக்கிய அம்சங்கள்:

1) அதிக அடர்த்தி மற்றும் முழு அடைப்பு: ஒட்டுமொத்தமாக கிராஃபைட் அடித்தளம் அதிக வெப்பநிலை மற்றும் அரிக்கும் வேலை சூழலில் உள்ளது, மேற்பரப்பு முழுமையாக மூடப்பட்டிருக்க வேண்டும், மேலும் பூச்சு ஒரு நல்ல பாதுகாப்பு பாத்திரத்தை வகிக்க நல்ல அடர்த்தியைக் கொண்டிருக்க வேண்டும்.

2) நல்ல மேற்பரப்பு தட்டையானது: ஒற்றை படிக வளர்ச்சிக்கு பயன்படுத்தப்படும் கிராஃபைட் தளத்திற்கு மிக உயர்ந்த மேற்பரப்பு தட்டையான தன்மை தேவைப்படுவதால், பூச்சு தயாரிக்கப்பட்ட பிறகு அடித்தளத்தின் அசல் தட்டையான தன்மை பராமரிக்கப்பட வேண்டும், அதாவது, பூச்சு அடுக்கு ஒரே மாதிரியாக இருக்க வேண்டும்.

3) நல்ல பிணைப்பு வலிமை: கிராஃபைட் தளத்திற்கும் பூச்சுப் பொருளுக்கும் இடையே உள்ள வெப்ப விரிவாக்கத்தின் குணகத்தின் வேறுபாட்டைக் குறைக்கவும், இது இரண்டிற்கும் இடையேயான பிணைப்பு வலிமையை திறம்பட மேம்படுத்த முடியும், மேலும் அதிக மற்றும் குறைந்த வெப்பநிலை வெப்பத்தை அனுபவித்த பிறகு பூச்சு எளிதில் வெடிக்க முடியாது. சுழற்சி.

4) உயர் வெப்ப கடத்துத்திறன்: உயர்தர சிப் வளர்ச்சிக்கு விரைவான மற்றும் சீரான வெப்பத்தை வழங்க கிராஃபைட் அடிப்படை தேவைப்படுகிறது, எனவே பூச்சு பொருள் அதிக வெப்ப கடத்துத்திறனைக் கொண்டிருக்க வேண்டும்.

5) அதிக உருகுநிலை, அதிக வெப்பநிலை ஆக்சிஜனேற்ற எதிர்ப்பு, அரிப்பு எதிர்ப்பு: பூச்சு அதிக வெப்பநிலை மற்றும் அரிக்கும் வேலை சூழலில் நிலையாக வேலை செய்ய முடியும்.

4 அங்குல அடி மூலக்கூறு வைக்கவும்
எல்இடியை வளர்ப்பதற்கான நீல-பச்சை எபிடாக்ஸி
எதிர்வினை அறையில் வைக்கப்பட்டுள்ளது
செதில்களுடன் நேரடி தொடர்பு 4 அங்குல அடி மூலக்கூறு வைக்கவும்
UV LED எபிடாக்சியல் படம் வளர பயன்படுகிறது
எதிர்வினை அறையில் வைக்கப்பட்டுள்ளது
செதில்களுடன் நேரடி தொடர்பு Veeco K868/Veeco K700 இயந்திரம்
வெள்ளை LED எபிடாக்ஸி/ப்ளூ-கிரீன் LED எபிடாக்ஸி VEECO உபகரணங்களில் பயன்படுத்தப்படுகிறது
MOCVD எபிடாக்ஸிக்கு
SiC பூச்சு சஸ்செப்டர் Aixtron TS உபகரணங்கள்
ஆழமான புற ஊதா எபிடாக்ஸி
2 அங்குல அடி மூலக்கூறு வீகோ உபகரணங்கள்
சிவப்பு-மஞ்சள் LED எபிடாக்ஸி
4-அங்குல வேஃபர் அடி மூலக்கூறு TaC பூசப்பட்ட சஸ்செப்டர்
(SiC Epi/ UV LED ரிசீவர்) SiC பூசப்பட்ட சஸ்செப்டர்
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD சஸ்செப்டர்)