செய்தி

எபிடாக்சியல் உலையின் செயல்பாட்டுக் கொள்கையானது, உயர் வெப்பநிலை மற்றும் உயர் அழுத்தத்தின் கீழ் ஒரு அடி மூலக்கூறு மீது குறைக்கடத்தி பொருட்களை வைப்பதாகும். சிலிக்கான் எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி என்பது, ஒரு குறிப்பிட்ட படிக நோக்குநிலையுடன் சிலிக்கான் ஒற்றை படிக அடி மூலக்கூறில் அடி மூலக்கூறு மற்றும் வெவ்வேறு தடிமன் போன்ற அதே படிக நோக்குநிலையுடன் படிகத்தின் ஒரு அடுக்கை வளர்ப்பதாகும். இந்தக் கட்டுரை முக்கியமாக சிலிக்கான் எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி முறைகளை அறிமுகப்படுத்துகிறது: நீராவி கட்ட எபிடாக்ஸி மற்றும் திரவ நிலை எபிடாக்ஸி.

செமிகண்டக்டர் உற்பத்தியில் இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) மெல்லிய படப் பொருட்களை அறையில் வைப்பதற்குப் பயன்படுத்தப்படுகிறது, இதில் SiO2, SiN போன்றவை அடங்கும், மேலும் பொதுவாகப் பயன்படுத்தப்படும் வகைகளில் PECVD மற்றும் LPCVD ஆகியவை அடங்கும். வெப்பநிலை, அழுத்தம் மற்றும் எதிர்வினை வாயு வகையைச் சரிசெய்வதன் மூலம், வெவ்வேறு செயல்முறைத் தேவைகளைப் பூர்த்தி செய்ய CVD உயர் தூய்மை, சீரான தன்மை மற்றும் நல்ல படக் கவரேஜ் ஆகியவற்றை அடைகிறது.

இந்த கட்டுரை முக்கியமாக சிலிக்கான் கார்பைடு மட்பாண்டங்களின் பரந்த பயன்பாட்டு வாய்ப்புகளை விவரிக்கிறது. சிலிக்கான் கார்பைடு மட்பாண்டங்களில் சின்தேரிங் விரிசல்களின் காரணங்கள் மற்றும் அதனுடன் தொடர்புடைய தீர்வுகள் பற்றிய பகுப்பாய்வு குறித்தும் இது கவனம் செலுத்துகிறது.