செய்தி

Veteksemicon 2025 ஷாங்காய் SEMICON சர்வதேச கண்காட்சியில் பிரகாசிக்கிறது, புதுமையான தொழில்நுட்பங்களுடன் குறைக்கடத்தி தொழில்துறையின் எதிர்காலத்தை வழிநடத்துகிறது

குறைக்கடத்தி உற்பத்தித் துறையில், சாதன அளவு தொடர்ந்து சுருங்கி வருவதால், மெல்லிய திரைப்படப் பொருட்களின் படிவு தொழில்நுட்பம் முன்னோடியில்லாத சவால்களை ஏற்படுத்தியுள்ளது. அணு மட்டத்தில் துல்லியமான கட்டுப்பாட்டை அடையக்கூடிய மெல்லிய திரைப்பட படிவு தொழில்நுட்பமாக அணு அடுக்கு படிவு (ALD), குறைக்கடத்தி உற்பத்தியின் இன்றியமையாத பகுதியாக மாறியுள்ளது. மேம்பட்ட சிப் உற்பத்தியில் அதன் முக்கிய பங்கைப் புரிந்துகொள்ள உதவும் வகையில் ALD இன் செயல்முறை ஓட்டம் மற்றும் கொள்கைகளை அறிமுகப்படுத்துவதை இந்த கட்டுரை நோக்கமாகக் கொண்டுள்ளது.

ஒரு சரியான படிக அடிப்படை அடுக்கில் ஒருங்கிணைந்த சுற்றுகள் அல்லது குறைக்கடத்தி சாதனங்களை உருவாக்குவது சிறந்தது. குறைக்கடத்தி உற்பத்தியில் உள்ள எபிடாக்ஸி (ஈபிஐ) செயல்முறை ஒற்றை-படிக அடி மூலக்கூறில் பொதுவாக 0.5 முதல் 20 மைக்ரான் வரை ஒரு சிறந்த ஒற்றை-படிக அடுக்கை டெபாசிட் செய்வதை நோக்கமாகக் கொண்டுள்ளது. குறைக்கடத்தி சாதனங்கள் தயாரிப்பதில் எபிடாக்ஸி செயல்முறை ஒரு முக்கியமான படியாகும், குறிப்பாக சிலிக்கான் வேஃபர் உற்பத்தியில்.